产品型号：“日本SIMCO思美高 离子棒 DS5630”，这是一款由日本的SIMCO公司生产的静电消除设备，SIMCO在中国国内的品牌名称是“思美高”，这款产品是一种高性能的离子棒，专门设计用于FPD和半导体后端应用，可以快速消除静电，降低电压波动，提高平衡精度。
产品的特点有以下几点：
采用调制脉冲技术，结合高频正弦波和调制脉冲，产生高效的离子输出和传输。
使用单晶硅发射点，具有超高的清洁度，符合ISO 14644-12标准（0.01微米颗粒或纳米颗粒）和ISO 14644 Class 1标准（0.1微米颗粒）。
具有优异的横向均匀性，低场电压，可靠的自动平衡系统。
可选的气辅功能，可以加速离子传输，提高消除速度和距离。
可通过软件进行简单的界面调节，调整电压，频率和平衡，以适应不同的环境和产品敏感性需求。
具有报警输出信号，可以与工具或设施监控系统通信。
产品的规格有以下几点：
输入电压 | 24 VDC ± 10% |
输出电压 | 13.5 kV p-p (最大), 可调节 |
距离 | 150 - 1000 毫米距离表面; 应用和客户规格相关 |
频率 | 默认设置为 5 Hz; 可从 1-33 Hz 调节 |
平衡 | 自动平衡系统 <±20V 随时间和棒长度变化 (在控制环境下，24英寸距离测量) |
离子发射 | 调制脉冲 (MP) 技术 |
发射点 | 单晶硅发射点 |
发射点间距 | 喷嘴间距50毫米或75毫米; 450毫米和600毫米长度仅有50毫米间距 |
气源 | 清洁干燥空气 (CDA) 或氮气 |
气流 | 45 psi 最大气压; 每个喷嘴1-3.5 lpm 通过8毫米OD一键式接头 (可选) |
离子化性能 | 15秒 (典型) 无气辅助, Vp-p 波动80 Vp-p; 测量于发射点中心群下方24英寸处 |
清洁度 | 符合 ISO 14644-12 清洁度 (0.01 µm 颗粒或纳米颗粒) 和 ISO 14644 Class 1 (0.1 µm 颗粒) 使用 45-50% 臭氧 < 0.05 ppm |
EMI | 低于背景水平 |
操作环境温度 | 15-35ºC (59-95ºF); 湿度 30-60% RH, 非冷凝 |
产品的优势劣势是以下几点：
优势：高效消除静电，提高产品质量和生产效率；适用于各种尺寸和形状的静电敏感物体；可调节性强，易于安装和优化；清洁度高，符合最新的技术节点要求。
劣势：价格较高，需要定期清洁和维护；对电源和气源的稳定性要求较高；在高温或高湿度的环境下可能性能下降。
产品应该如何使用：
根据需要选择合适的长度和发射点间距的离子棒，安装在静电敏感物体的上方或旁边，距离物体表面150-1000毫米。
连接电源和气源，调节电压，频率和平衡，使离子棒产生足够的离子输出和传输。
开启气辅功能（可选），加速离子传输，提高消除速度和距离。
定期检查离子棒的工作状态，清洁和更换发射点，保持离子棒的高效性能。
还有哪些型号和它类似：
日本SIMCO思美高 离子棒 DS5635，是一款专门设计用于半导体和其他超洁净制造过程的离子棒，具有更高的清洁度和更密集的发射点间距。
日本SIMCO思美高 离子棒 DS5636，是一款专门设计用于FPD和半导体前端应用的离子棒，具有更高的离子输出和传输，以及更低的臭氧产生。
日本SIMCO思美高 离子棒 DS5637，是一款专门设计用于半导体和其他超洁净制造过程的离子棒，具有更高的清洁度和更密集的发射点间距，以及更低的臭氧产生。
关于的详细产品价格还请咨询杉本客服，杉本贸易有售这个产品系列的全部，欢迎大家来咨询。
